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液體源汽化系統(tǒng)

在光伏.半導體等新型行業(yè)中大多數使用到化學氣相沉積(CVD).金屬有機物化學氣相沉積(MOCVD).原子層沉積(ALD).反應離子蝕刻(RIE)等工藝,在這些工藝中工藝中化學品輸送需要使用的輸送設備是整個工業(yè)系統(tǒng)的關鍵,根據市場需要,依托于公司在熱力學方面綜合發(fā)明專利汽化技術(ZL201710323108.8 ,ZL201710164030.X),我司開發(fā)了液體源汽化系統(tǒng),系統(tǒng)充分考慮液態(tài)源化學品性質、溫度、濕度變化對流量、品質和穩(wěn)定性的影響,采用精密氣體混合技術對混合氣體濃度進行動態(tài)控制,能夠調節(jié)流入氣體濃度所帶來的變化或偏移,系統(tǒng)包含氣體和液體流量控制器和溫控蒸發(fā)器.集成電源、顯示屏和控制功能,產品應用場景靈活。

產品概述

性能指標

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應用案例